湿法刻蚀与反应离子刻蚀工艺有什么区别?
在微电子制造、MEMS(微机电系统)和半导体工业中,刻蚀工艺是图形转移过程中不可或缺的关键环节。它指的是通过物理或化学方法,选择性地去除衬底表面特定材料,从而将光刻胶上的电路图形精确地转移到衬底表面的过程。
在微电子制造、MEMS(微机电系统)和半导体工业中,刻蚀工艺是图形转移过程中不可或缺的关键环节。它指的是通过物理或化学方法,选择性地去除衬底表面特定材料,从而将光刻胶上的电路图形精确地转移到衬底表面的过程。
该限量系列由Wedgwood工匠纯手工打造,囊括英国著名陶艺家Lucie Rie创作但从未投产的茶杯与茶碟,以及一系列灵感源自Jonathan Anderson私人收藏的公元5世纪希腊陶杯的马克杯作品。